武汉大学物理科学与技术学院原子层沉积系统

gogoali

设备编号*11000166
分类编号 03060301
仪器中文名称*原子层沉积系统
仪器外文名称Atomic Layer Deposition System
仪器规格型号*Beneq TSF-200
仪器总价（元）*
生产厂商*芬兰Beneq
产地国别*芬兰
生产日期2009
启用日期*2011.05
所在单位*物理科学与技术学院
实验室名称
安放详细地址*物理科学与技术学院2-110
联系人*吴昊
电话*15971459108
E-mailH.wu@whu.edu.cn
测试服务标准*
  校内   元/小时；院内 元/小时；校外 元/小时；
每周开放机时数*
小时
主要技术指标*
三路液态源，两路气态源（NH3，O3），两路固态源
主要附件及功能*
1. 以原子层精度进行薄膜生长。
2. 备有NH3源及臭氧源，可以生长多种氮化物和氧化物薄膜。
3. 薄膜平整，表面覆盖率、保形性极好
用户范围及服务项目*
薄膜材料生长
主要应用成果
1.       三大检索论文约3篇/年；
2.       年开设本科毕业设计2~5项；研究生毕业（设计）论文2~3项。
3.       年培训上机操作人数5人。
4.       科研课题9项。
5.       社会服务3项。